领域的专业市场研究报告，是光刻机行业发展忠实的记录者和见证者。旨在为中国光刻机行业生产厂家、政府机构、业界专家了解和掌握中国光刻机发展脉络提供全面参考。
《报告》自2018年开始出版，每年一版，目前已连续7年。智研咨询研究团队持续跟进光刻机发展历程，总结现状、深化研究、探索规律，《报告》总计10章，从发展综述、运行环境、产业链分析、竞争形势、企业动态、发展前景、投资策略等多个方面，通过详实的数据，全面总结和回顾了2023年光刻机行业的新趋向、新亮点，同时对现存问题进行了深度思考，为下一步光刻机行业高质量发展提出了一系列有益的建议和未来的展望。
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机根据应用工序不同，可以分为用于生产芯片、用于封装和用于LED制造；按照曝光光源，可分为紫外光源（UV）、深紫外光源（DUV）、极紫外光源（EUV）；按照曝光方式，可分为接触式光刻、直写式光刻、投影式光刻。据统计，2023年我国光刻机产量为124台，需求量为727台，市场规模为160.87亿元。
从产业链来看，光刻机产业链主要包括上游设备及材料、中游光刻机生产及下游光刻机应用三大环节。光刻机行业产业链中最为核心设备分别为光学镜头和光学光源，其镜头控制光学系统的精密度以及光源决定使用的波长，光刻物镜数值孔径与光源波长决定了光刻机的工艺能力。光刻机主要应用于晶圆制造、LED制造以及芯片封测等领域。
近年来，在国家政策的扶持以及一批龙头企业的带领下，我国光刻机技术也开始了飞速的发展，国内光刻机生产商主要有SMEE、芯碁微装、影速、科视光学、源卓微纳、图双精密、鸿源鼎芯、ICRD等。其中SMEE（上海微电子装备(集团)股份有限公司）主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。芯碁微装专业从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发和生产。主要产品及服务包括PCB直接成像设备及自动线系统、泛半导体直写光刻设备及自动线系统、其他激光直接成像设备。科视光学是一家PCB直接成像设备，泛半导体直写光刻设备、LED全自动及半自动曝光设备研发、生产、销售、服务于一体的国家高新技术企业。
智研咨询研究团队围绕中国光刻机产业规模、产业结构、重点企业情况、产业发展趋势等方面进行深入分析，并针对光刻机产业发展中存在的问题提出建议，为各地政府、产业链关联企业、投资机构提供参考。
1：本报告核心数据更新至2023年12月（报告中非上市企业受企业信批影响，相关财务指标或存在一定的滞后性），报告预测区间为2024-2030年。
2：除一手调研信息和数据外，国家统计局、中国海关、行业协会、上市公司公开报告（招股说明书、转让说明书升博体育、年报、问询报告等）等权威数据源亦共同构成本报告的数据来源。一手资料来源于研究团队对行业内重点企业访谈获取的一手信息数据，主要采访对象有企业高管、行业专家、技术负责人、下游客户、分销商、代理商、经销商以及上游原料供应商等；二手资料来源主要包括全球范围相关行业新闻、公司年报、非盈利性组织、行业协会、政府机构及第三方数据库等。
3：报告核心数据基于智研团队严格的数据采集、筛选、加工、分析体系以及自主测算模型，确保统计数据的准确可靠。
4：本报告所采用的数据均来自合规渠道，分析逻辑基于智研团队的专业理解，清晰准确地反映了分析师的研究观点。
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